КРЕМНИЯ ФТОРИДЫ (фторсиланы). Тетрафторид (тетрафторсилан) SiF4 - бесцв. газ. плотн. 1,598 г/см3 (-80 °C); давление в тройной точке 0,225 М Па; C0p 73,6 Дж/(моль.К); DH0обр - 1614,95 кДж/моль, DG0обр
- 1572,5 кДж/моль; S0298 282,65 Дж/(моль.К); ур-ние температурной зависимости давления пара. lgp(Па)=12,60-1346/T(118-178 К). Гидролизуется водой с образованием кремнефтористоводородной кислоты и геля SiO2, выше 800 °С пара.и воды - до HF и SiO2. Р-римость (в г/л при 20 °С): в метаноле 328, этаноле 364, ацетоне 31.
Образует адцукты с NH3 и орг. основаниями. Получают SiF4 термич. разложением фторосиликатов и H2SiF6, взаимод. HF и F2 с Si, SiO2 и силикатами. в промышленности - как побочный продукт при кислотной переработке апатита и фосфоритов. в произ-ве HF. Применяют SiF4 для получения H2SiF6 и неорг. фторидов. Si и SiO2, для очистки Si путем хим. транспортной реакции (Si+SiF4D2SiF2), как реагент для травления Si. Токсичен, ПДК 0,5 мг/м3.
Дифторид (SiР2)n - газ.образное, жидкое или твердое вещество (в зависимости от степени полимеризации). Образуется при взаимод. SiF4 с Si выше 1100°С и низком давлении (~10 гПа); при быстром охлаждении паров до температуры жидкого N2 выделяется в виде эластомера, который самовоспламеняется на воздухе и гидролизуется водой. Деструктивной перегонкой эластомера при 300 °С получают бесцв. жидкие или твердые вещества, обладающие близкими хим. свойствами, а разложением при 400-950 °С-Si и SiF4. Дифторид взаимод. с SiF4, образуя полифторсиланы SinF2n+2, где n=2-14 (см. табл.). Дифторид - реагент в орг. синтезе и промежут. продукт при очистке Si.
Известны также неустойчивые фторсиланы SiF, SiF3, SiH4 Рx, а также оксифториды (фторсилоксаны) SiOF2, Si2OF6 и др., смешанные галогенфторсиланы SiXxF4-x и др. См. также Фторосиликаты.Лит.: Rochow E.G., The chemistry of silicon, Oxf.[a. o.]. 1975 (Pergamon texts in inorganic chemistry, v. 9); Perry D.L, Margrave J.L. "J. Chem. Educ.". 1976, v. 53, № II. p. 696-99. Э. Г. Раков.
